IC photoresist

     KMP DK1080是国内首款商业化的248nmDUV(KrF)光刻胶,由本公司独立开发完成,并实现向国内先进集成电路制造企业的批量供货。

     KMP DK1080适用于集成电路制造中有Implant Layer工艺,在不使用底部抗反射涂层(BARC)时仍能消除由干涉引起的驻波效应,得到陡直的形貌。其膜厚范围为6000-9000A,分辨率达0.25um,同时具有快速的感光速度及优异的工艺窗口。

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