IC photoresist

     KMP C7500系列光刻胶是高分辨I线光刻胶,其采用了独特的树脂结构及具有高分辨性能的感光剂,在0.75um膜厚下可以实现0.35um的分辨率。该系列光刻胶具有不同的粘度,其膜厚范围为0.5-2.0um,同时具有感光速度快、分辨率高及工艺窗口大等优点,适用于集成电路制造工艺中对分辨率要求较高的i线层,已经广泛商用于国内先进集成电路制造业企业。

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