IC photoresist

     KMP C5300系列光刻胶是G/I线通用正性光刻胶,其在1.2um膜厚下可实现0.6um的分辨率,该系列光刻胶感光速度快(1.25um时,Eop达65mJ/cm2),该系列光刻胶具有不同粘度的产品,其膜厚范围为0.75-2.5um,同时具有感光速度快、分辨率高及工艺窗口大等优点,适用于集成电路制造工艺中对分辨率要求不高的i线层,已经广泛商用于国内先进集成电路制造业企业。

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